下列反应离子方程式正确的是A．FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe3 Cu

题目内容：

下列反应离子方程式正确的是

A．FeCl₃溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe³ Cu ＝ Fe² Cu²

B．硅酸钠溶液和稀硫酸混合：Na₂SiO₃＋2H^＋ ＝ H₂SiO₃↓＋2Na

C．Ba(OH)₂溶液与稀硫酸反应：Ba² OH^－ H SO₄^2－＝BaSO₄↓ H₂O

D．向氯化铝溶液中滴加过量氨水：Al^3＋＋3NH₃·H₂O＝Al(OH)₃↓＋3NH₄^＋

最佳答案：

D

答案解析：

A、电子得失不守恒，应该是2Fe³ Cu ＝ 2Fe² Cu² ，A不正确；B、硅酸钠是应该用离子符号表示，正确的是SiO₃^2—＋2H^＋ ＝H₂SiO₃↓，B不正确；C、不符合定比组分比，应该是Ba² 2OH^－ 2H SO₄^2－＝BaSO₄↓ 2H₂O，C不正确；D、氨水是弱碱，不能溶解氢氧化铝，D正确，答案选D。

考点核心：

离子方程式：用实际参加反应的离子符号表示离子反应的式子。